[情報] 挑戰ASML!佳能壓印機NIL可攻2奈米、價
看板PC_Shopping (個人電腦購買)作者hn9480412 (ilinker)時間1年前 (2024/01/02 01:17)推噓28(28推 0噓 25→)留言53則, 34人參與討論串1/2 (看更多)
挑戰ASML!佳能壓印機NIL可攻2奈米、價格僅EUV的10%
2023/12/30 06:46
〔編譯魏國金/台北報導〕瑞典媒體Gamingdeputy 27日報導,日本半導體設備巨頭佳能(Canon)十月推出的奈米壓印裝置(NIL)FPA-1200NZ2C不僅可生產2奈米製程晶片,其耗電量與價格皆為對手艾司摩爾(ASML)深紫外光機(EUV)的十分之一,為小型半導體製造商開啟生產先進晶片的新途徑。
佳能半導體機器事業部長岩本和德(Kazunori Iwamoto)指出,奈米壓印是將光罩上的半導體電路圖壓印在晶圓上,只要一次壓印,就能在適當位置形成複雜的2D或3D電路圖,因此只要持續改進光罩,甚至能生產2奈米晶片。
報導說,佳能的奈米壓印技術可生產至少5奈米製程晶片。先進半導體設備市場目前由艾司摩爾主導,佳能的技術將持續縮小與艾司摩爾的差距。
對於設備成本,岩本和德估計,單次壓印的成本可低至傳統曝光設備的一半。佳能執行長御手洗富士夫(Mitarai Fujio)則表示,奈米壓印的產品價格比艾司摩爾的EUV 將減少一位數,亦即前者為後者十分之一。
報導說,有別於以光學圖像投影原理來運作EUV,佳能開發的奈米壓印技術是將電路圖直接印在晶圓上,製造出的晶片據稱擁有可媲美最先進節點的幾何圖形,不過壓印速度較EUV慢。
該新設備預計可讓晶片製造商降低對晶片代工廠的依賴,同時讓台積電、三星電子等晶片代工廠更可能大量生產晶片。佳能表示,該設備需要的功率僅為EUV的十分之一。
佳能之前聚焦於生產普通晶片,2014年起開始大力投資壓印技術,並收購專門開發奈米壓印技術的Molecular Imprints公司。岩本和德說,佳能已收到大量半導體製造商、大學、研究機構的詢問,他們估計該技術可作為EUV的替代裝置,並可為個人電腦與邏輯IC生產快閃記憶體、DRAM等各種半導體。
https://ec.ltn.com.tw/article/breakingnews/4536163
Nikon和Canon以前確實有在製造曝光機啦,但先進製程就變成ASML的天下了
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