[新聞] 台積電改變想法？ASML 證實年底交貨 High-NA EUV 曝光機

看板MobileComm (行動通訊)作者WOGEchidna (艾姬多娜)時間3月前 (2024/06/06 23:27)推噓5(6推 1噓 10→)

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1.原文連結：連結過長者請使用短網址。 https://reurl.cc/9vQZaa 2.原文標題：標題須完整寫出且須符合內文(否則依板規刪除並水桶)。台積電改變想法？ASML 證實年底交貨 High-NA EUV 曝光機 3.原文來源(媒體/作者)：例:蘋果日報/王大明(若無署名作者則不須) TechNews!科技新報/Atkinson 4.原文內容：請刊登完整全文(否則依板規刪除並水桶)。半導體曝光機大廠艾司摩爾 (ASML) 已交貨英特爾 (Intel) 首台商用 High-NA EUV 曝光機並安裝完畢，英特爾院士 Mark Phillips 確認設備年底啟用。相較英特爾，台積電似乎不急著加入競賽，台積電已於荷蘭技術論壇表明不立即購入這款昂貴半導體製造設備。台積電表示幾年內都不需要高階 EUV，且價格也非常高昂。分析師預測，台積電可能要到 2030 年甚至更晚才會購入 EUV。不過才過幾個月，台積電似乎改變想法。外媒報導，ASML 發言人 Monique Mols 說年底會交貨每套價值 3.8 億美元的 High-NA EUV，ASML 財務長 Roger Dassen 也證實，兩大客戶台積電和英特爾年底會收到 High-NA EUV。受此消息影響，ASML 股價開盤後上漲超過 6%。英特爾 2022 年宣布簽約購買五套 TWINSCAN NXE:3600D，2025 年 Intel 18A 先進製程測試與訓練。先進曝光技術是尖端晶片製造不可或缺的關鍵，且 High-NA EUV 有望降低 66% 晶片大小。ASML 官方透露，High-NA EUV 比標準 EUV 體積大 30%，需三架以上波音 747 貨機運載。台積電已宣布，2 奈米製程發展順利，並 2025 下半年推出 N3X、N2 製程，2026 下半年量產 N2P 和 A16 先進製程。與已量產 3 奈米不同，將量產的 2 奈米為 Gate-all-around FETs（GAAFET）電晶體，較 3 奈米性能提升 10%~15%，功耗降低 25%~30%。台積電董事長魏哲家缺席年度技術論壇台北場，改拜訪荷蘭 ASML 總部，外界解讀為台積電對 High-NA EUV 的態度轉變，因接下來先進製程不可或缺性與競爭對手英特爾已購入設備，故台積電下一步動作對維持市場優勢都是關鍵，值得後續觀察。 5.心得/評論：內容須超過繁體中文30字(不含標點符號)。 FINFET的發展已經走到盡頭，接下來是GAAFET的全新戰場雖然不曉得台積電當時的想法和現在的想法落差如此巨大的原因但是三星和英特爾都在虎視眈眈不能拿未來去賭"他們是否有能力製造最先進的製程"，要直接搶在他們前面後面甚至還有一位"不惜任何代價"、"集全國之力"，各種名義上都是"敵"手的人尤其是黃仁勳、蘇姿丰等科技界大咖都在陸續加碼台灣的現在如同文章最後所說，台積電下一步動作對維持市場優勢都是關鍵 -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 125.229.107.20 (臺灣) ※ 文章網址: https://www.ptt.cc/bbs/MobileComm/M.1717687644.A.3FA.html