[請益] Ansys fluent 電鍍模擬
我目前在嘗試使用ansys fluent 模擬一個電鍍槽，包含噴流口、掛鍍架和裝陽極的鈦籠，
目標是找出影響電鍍厚度均勻度的因子。
但是我在使用species transport -->volumetric /electrochemical 的功能，並照著說明
書一步步設定時，在初始化的階段總會跳出not converge on node 0的錯誤訊息，然後程式
就掛了。node指的應該是CPU的核心。
電化學的模擬，在網路上幾乎沒有相關討論，請問有大大可以分享要怎麼模擬嗎？或者有沒
有什麼建議可以幫我解決這些問題？ 謝謝
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